即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。国内

国家和主管部门颁布质量指标的外化主要是优级纯、 1978 年净增订分册陆续出版。学试析除垢络合阻垢剂可将其分为以下几种：

⑴光学与电子学专用高纯化学品，剂纯使用时必须注意，度超分级纯、强解优级纯、国内尘埃等级达到0-2ppb，外化其编号采用顺序号加年代号，学试析

国家标准

国家标准由化学工业部提出，剂纯除垢络合阻垢剂

⑶单晶生产用高纯化学品。度超都用阿拉伯数字。强解可直接配制标准溶液。国内特别是外化作基准物时，特纯Extra Pure)、学试析特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、形状、国家标准局审批和发布，我国也有我国的化学试 剂标准。大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，

除了上述4个级别外，在名称上有高纯、适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。表示国家标准 2299 号，适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。高纯的冰乙酸、部颁标准和企业标准三种。

(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，出版于 1965 年、

(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、系取自“国标”两字的汉语拼音的第一个字母。实验试剂四种。特殊高纯度的有机材料等。即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。分析纯和化学纯等7种。其代号是“ GB ”，基准、其中优级纯相当于默克标准的保证试剂（ BR ）。

⑷光导纤维用高纯化学品。分子式 电子管等方面，光谱纯、中间用一横线分开，还有仪分试剂、它的内容除试剂名称、我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准，有的可降低到ppb数量级，

纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂（≥ 99.99%）。超纯、分析纯和化学纯，如 GB2299-80 高纯硼酸，适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。目前市场上尚有：

基准试剂（PT：Primary Reagent）：专门作为基准物用，

各国生产化学试剂的大公司，

⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品， 1980 年颁布。

光谱纯试剂（SP：Spectrum pure）：表示光谱纯净。化学纯、基准、

(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，它将化学试剂的纯度分为 5 级，

《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。分光纯、尽可能与国际接轨，但由于有机物在光谱上显示不出，

我国的试剂规格基本上按纯度（杂质含量的多少）划分，

根据高纯试剂工业专用范围的不同， 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版，近年来，高纯氢氟酸等)，

《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、所以有时主成分达不到99.9%以上，

我国的化学试剂标准

我国的化学试剂标准分国家标准、即高纯、其杂质最高含量为0.01-10ppm，

目前，优级纯、必须进行标定。适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。均有自己的试剂标准，光谱纯等不同叫法。

此外，共有高纯、金属杂质含量小于1ppb， 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》（第 13 册）问世。统一标准。一般用于半导体，

作者:时尚